Matches in Wikidata for { <http://www.wikidata.org/entity/Q60184831> ?p ?o ?g. }
Showing items 1 to 36 of
36
with 100 items per page.
- Q60184831 description "article scientifique publié en 2006" @default.
- Q60184831 description "im Juni 2006 veröffentlichter wissenschaftlicher Artikel" @default.
- Q60184831 description "wetenschappelijk artikel" @default.
- Q60184831 description "наукова стаття, опублікована в червні 2006" @default.
- Q60184831 name "A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD" @default.
- Q60184831 name "A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD" @default.
- Q60184831 type Item @default.
- Q60184831 label "A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD" @default.
- Q60184831 label "A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD" @default.
- Q60184831 prefLabel "A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD" @default.
- Q60184831 prefLabel "A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD" @default.
- Q60184831 P1433 Q60184831-463C4997-259F-4BD4-B9E1-E90EB6FA8119 @default.
- Q60184831 P1476 Q60184831-7879C354-0515-4F62-B3E6-9A0CB420326F @default.
- Q60184831 P2093 Q60184831-81EAE16D-355F-404F-8469-E6AA88891365 @default.
- Q60184831 P2093 Q60184831-BB0DDCEF-3773-436F-B936-B74067BB00E2 @default.
- Q60184831 P2093 Q60184831-E1387EF8-1C08-4573-A365-2EC687F94550 @default.
- Q60184831 P304 Q60184831-8A741B70-D559-486B-BD7B-F50D56468927 @default.
- Q60184831 P31 Q60184831-0B7F2991-91C9-472A-8E2E-D39B62111762 @default.
- Q60184831 P356 Q60184831-0963C21A-BC74-4AEF-A8C8-85E6DDAF9BDC @default.
- Q60184831 P433 Q60184831-4099FFEE-8B05-4F8D-B68D-00575E2D9190 @default.
- Q60184831 P478 Q60184831-1962B24F-41E9-4F46-920E-9B0CE38DDF8F @default.
- Q60184831 P50 Q60184831-A2FFA76E-65CB-409E-BAC7-80D000B94AFA @default.
- Q60184831 P577 Q60184831-165E600E-EE83-47A6-92B7-4595CABEE09E @default.
- Q60184831 P356 J.JNONCRYSOL.2005.10.030 @default.
- Q60184831 P1433 Q15765885 @default.
- Q60184831 P1476 "A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD" @default.
- Q60184831 P2093 "A. Pecora" @default.
- Q60184831 P2093 "C. Caligiore" @default.
- Q60184831 P2093 "G. Fortunato" @default.
- Q60184831 P304 "1430-1433" @default.
- Q60184831 P31 Q13442814 @default.
- Q60184831 P356 "10.1016/J.JNONCRYSOL.2005.10.030" @default.
- Q60184831 P433 "9-20" @default.
- Q60184831 P478 "352" @default.
- Q60184831 P50 Q60184069 @default.
- Q60184831 P577 "2006-06-01T00:00:00Z" @default.