Matches in Wikidata for { <http://www.wikidata.org/entity/Q60184834> ?p ?o ?g. }
Showing items 1 to 46 of
46
with 100 items per page.
- Q60184834 description "article scientifique publié en 2005" @default.
- Q60184834 description "wetenschappelijk artikel" @default.
- Q60184834 description "наукова стаття, опублікована в травні 2005" @default.
- Q60184834 name "Silicon dioxide deposited by ECR-PECVD for low-temperature Si devices processing" @default.
- Q60184834 name "Silicon dioxide deposited by ECR-PECVD for low-temperature Si devices processing" @default.
- Q60184834 type Item @default.
- Q60184834 label "Silicon dioxide deposited by ECR-PECVD for low-temperature Si devices processing" @default.
- Q60184834 label "Silicon dioxide deposited by ECR-PECVD for low-temperature Si devices processing" @default.
- Q60184834 prefLabel "Silicon dioxide deposited by ECR-PECVD for low-temperature Si devices processing" @default.
- Q60184834 prefLabel "Silicon dioxide deposited by ECR-PECVD for low-temperature Si devices processing" @default.
- Q60184834 P1433 Q60184834-98051E49-AAD2-4603-93D8-BBB2F16CB717 @default.
- Q60184834 P1476 Q60184834-007A5AEF-CEF8-4E6C-8BCC-E1973BBC22BF @default.
- Q60184834 P2093 Q60184834-08EB58E5-99D2-4006-A70B-F27CA8397E41 @default.
- Q60184834 P2093 Q60184834-493CDB38-AD06-4D33-8C0A-DD5586E1B0C4 @default.
- Q60184834 P2093 Q60184834-A6398813-73D7-4DA2-A5CE-2564E9B6AF63 @default.
- Q60184834 P2093 Q60184834-D40236B0-6686-407F-8468-492C1D0BB044 @default.
- Q60184834 P2093 Q60184834-ECD49E3F-9E89-4176-BAC8-3EAF746D13DD @default.
- Q60184834 P2093 Q60184834-F4C1EA32-3297-4BE4-BE48-96E68EF4B784 @default.
- Q60184834 P304 Q60184834-8BD29F97-0A27-4357-9E1D-685E2FCEE576 @default.
- Q60184834 P31 Q60184834-53D0650F-0D69-43D3-BBC8-93A804FD7E35 @default.
- Q60184834 P356 Q60184834-B13C4CAE-C664-4A53-9522-8961246E8067 @default.
- Q60184834 P433 Q60184834-8EB523DE-1525-478F-9723-7B89D79A6296 @default.
- Q60184834 P478 Q60184834-36BA0BBF-D50E-4A7C-97D6-61B1DB5F40F0 @default.
- Q60184834 P50 Q60184834-39FBAA0E-9B7B-44CC-B716-ED4BFFBCE512 @default.
- Q60184834 P50 Q60184834-7A73A890-5BCC-4B5F-8D9F-905F080D39D9 @default.
- Q60184834 P577 Q60184834-6DC0B1DA-F692-47F0-8290-47557231F23B @default.
- Q60184834 P8978 Q60184834-7F200A9A-A10C-40D5-82B5-D3AC2A352B2F @default.
- Q60184834 P356 J.MICROREL.2004.09.012 @default.
- Q60184834 P8978 PecoraMBCMMFY05 @default.
- Q60184834 P1433 Q13852898 @default.
- Q60184834 P1476 "Silicon dioxide deposited by ECR-PECVD for low-temperature Si devices processing" @default.
- Q60184834 P2093 "A. Bonfiglietti" @default.
- Q60184834 P2093 "A. Pecora" @default.
- Q60184834 P2093 "F. Mecarini" @default.
- Q60184834 P2093 "G. Fortunato" @default.
- Q60184834 P2093 "M. Cuscunà" @default.
- Q60184834 P2093 "N.D. Young" @default.
- Q60184834 P304 "879-882" @default.
- Q60184834 P31 Q13442814 @default.
- Q60184834 P356 "10.1016/J.MICROREL.2004.09.012" @default.
- Q60184834 P433 "5-6" @default.
- Q60184834 P478 "45" @default.
- Q60184834 P50 Q58237158 @default.
- Q60184834 P50 Q60184069 @default.
- Q60184834 P577 "2005-05-01T00:00:00Z" @default.
- Q60184834 P8978 "journals/mr/PecoraMBCMMFY05" @default.