Matches in Wikidata for { <http://www.wikidata.org/entity/Q90739295> ?p ?o ?g. }
Showing items 1 to 51 of
51
with 100 items per page.
- Q90739295 description "articolo scientifico (pubblicato il 2020)" @default.
- Q90739295 description "artikull shkencor i botuar më 01 shkurt 2020" @default.
- Q90739295 description "artículu científicu espublizáu en febreru de 2020" @default.
- Q90739295 description "scientific article published on 01 February 2020" @default.
- Q90739295 description "wetenschappelijk artikel" @default.
- Q90739295 description "наукова стаття, опублікована 1 лютого 2020" @default.
- Q90739295 name "Influence of dry etching on the properties of SiO2 and HfO2 single layers" @default.
- Q90739295 name "Influence of dry etching on the properties of SiO2 and HfO2 single layers" @default.
- Q90739295 type Item @default.
- Q90739295 label "Influence of dry etching on the properties of SiO2 and HfO2 single layers" @default.
- Q90739295 label "Influence of dry etching on the properties of SiO2 and HfO2 single layers" @default.
- Q90739295 prefLabel "Influence of dry etching on the properties of SiO2 and HfO2 single layers" @default.
- Q90739295 prefLabel "Influence of dry etching on the properties of SiO2 and HfO2 single layers" @default.
- Q90739295 P1433 Q90739295-52E444F5-6AE9-4CA5-B929-8F58A9506403 @default.
- Q90739295 P1476 Q90739295-A2B1989A-E2FF-4533-98AF-5846E121E845 @default.
- Q90739295 P2093 Q90739295-0C5A6D7E-B140-4716-8AB0-85983227EA7D @default.
- Q90739295 P2093 Q90739295-28266557-84A9-4B40-B9C2-E8066A40E310 @default.
- Q90739295 P2093 Q90739295-6379EA43-1AD0-4FFD-B02E-DC246C25A633 @default.
- Q90739295 P2093 Q90739295-8BB92119-3762-414C-A859-1C2546253B3C @default.
- Q90739295 P2093 Q90739295-C89F8676-3A18-4FF9-8C72-2EA3B1EF4152 @default.
- Q90739295 P2093 Q90739295-F32BEFEA-A49E-40DF-A53B-D3A1B0E70932 @default.
- Q90739295 P2093 Q90739295-FBC5FDE8-969C-4D8F-A0CD-D756EF4D8DDF @default.
- Q90739295 P304 Q90739295-C5CD8F64-A1C9-489E-9ADC-E5C7386DAC1B @default.
- Q90739295 P31 Q90739295-2E69F11A-9097-4F14-B31A-4E0EE982C536 @default.
- Q90739295 P356 Q90739295-FB0648AB-7DEC-4BE7-BF9E-FF01739BBF0B @default.
- Q90739295 P407 Q90739295-E5152558-61E1-4330-B631-AB5B3C830D6E @default.
- Q90739295 P433 Q90739295-045AE535-9AAF-434C-8E76-C1933F234305 @default.
- Q90739295 P478 Q90739295-082B1602-2E05-4932-8FBC-E5FA68934771 @default.
- Q90739295 P577 Q90739295-CC20B54A-8545-4FDC-8DE5-F424F87DA75F @default.
- Q90739295 P698 Q90739295-B18178B9-8B63-4C15-8B3D-774F12847206 @default.
- Q90739295 P819 Q90739295-06187CA7-8AE6-4C4E-BBC6-52ADA1AD13F1 @default.
- Q90739295 P356 AO.59.00A128 @default.
- Q90739295 P698 32225364 @default.
- Q90739295 P1433 Q4781557 @default.
- Q90739295 P1476 "Influence of dry etching on the properties of SiO2 and HfO2 single layers" @default.
- Q90739295 P2093 "Hongfei Jiao" @default.
- Q90739295 P2093 "Huasong Liu" @default.
- Q90739295 P2093 "Jinlong Zhang" @default.
- Q90739295 P2093 "Jun Zhao" @default.
- Q90739295 P2093 "Lingyun Xie" @default.
- Q90739295 P2093 "Xinbin Cheng" @default.
- Q90739295 P2093 "Zhanshan Wang" @default.
- Q90739295 P304 "A128-A134" @default.
- Q90739295 P31 Q13442814 @default.
- Q90739295 P356 "10.1364/AO.59.00A128" @default.
- Q90739295 P407 Q1860 @default.
- Q90739295 P433 "5" @default.
- Q90739295 P478 "59" @default.
- Q90739295 P577 "2020-02-01T00:00:00Z" @default.
- Q90739295 P698 "32225364" @default.
- Q90739295 P819 "2020ApOpt..59A.128X" @default.