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- W1964103853 abstract "A general model of the depletion is given, to which the reactive component of the reaction gas mixture in a horizontal CVD-reactor is subjected during its flow along the heater. Furthermore the model of heating the process gas, described in Part I of this work, is used to derive an expression of the dependence of the thickness δ of the boundary layer upon the x-coordinate (direction of the flow). Both models are combined to get a model of longitudinal homogeneity of wafer processing in an CVD-reactor, which is applied to the special case of HCl gas phase etching. The predictions derived using the model were compared with experimental results. Es wird ein allgemeines Modell der Abreicherung aufgestellt, der die reaktive Komponente des Reaktionsgasgemisches beim Überströmen des Heizers im CVD-Reaktor unterliegt. Ferner wird das in Teil I dieser Arbeit entwickelte Modell der Gaserwärmung dazu verwendet, die Veränderung der Dicke der Strömungsgrenzschicht längs der Strömungsrichtung zu beschreiben. Beide Modelle werden zu einem Modell der Längshomogenität der Scheibenbearbeitung kombiniert und auf den Spezialfall der HCl-Gasphasenätzung angewandt. Die erhaltenen Aussagen werden mit experimentellen Ergebnissen verglichen." @default.
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