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- W1984847303 abstract "A modification of Hudock's method was used to deposit GaAs films on sapphire and on (111) semi-insulating GaAs in vacuum better than 5 × 10−8 Torr. On sapphire the crystallites increased in size with increasing substrate temperature, from about 0.6 μm at 480°C to 18 μm at 670°C. The degree of preferred orientation (〈111〉 texture) increased with increasing substrate temperature. Essentially single-crystal Laue and reflection electron diffraction patterns were obtained from films deposited at 630–640°C. Thermal-probe and Hall measurements showed that the films on sapphire were p-type with Hall mobility up to 42 cm2/V-sec. The electrical properties of the heteroepitaxial films are discussed in terms of the effects of potential barrier at the grain boundaries, space charge regions in the grains, deviation from stoichiometry and compensation of dopants. The homoepitaxial GaAs films were n-type with mobility nearer to the bulk. The higher mobility of these films indicated that hte quality of heteroepitaxial films was limited by the substrate rather than by the deposition method. Une version modifiée de la méthode de Hudock a été utilisée pour déposer des pellicules de GaAs sur du sapphire et sur du GaAs (111) mi-isolant dans un vide supérieur à 5 × 10−8 Torrs. Sur le sapphire, les cristallites ont augmenté de dimensions avec un accroissement de la température de la base de 0,6 μm environ à 480°C à 18 μm à 670°C. Le degré d'orientation préféré (texture 〈111〉) a augmenté avec la température de la base. Essentiellement on a obtenu des cristaux simples Laue et des effets de diffraction d'électrons de réflection à partir de pellicules déposées à 630–640°C. Des sondes thermiques et des mesures de Hall ont montré que les pellicules sur le sapphire étaient du type p avec une mobilité de Hall atteignant 42 cm2/V-sec. Les propriétés électriques des pellicules hétéroépitaxiales sont étudiées en termes des effets de barrière potentielle aux régions limitrophes du grain, des zones de charge spatiale des grains, de la déviation de stoichiométrie et de la compensation des dopants. Les pellicules homoépitaxiales de GaAs étaient du type n avec une mobilité plus proche de celle de la masse. La plus forte mobilité de ces pellicules indiquait que la qualité des pellicules hétéroépitaxiales était limitée par la base plutôt que par la méthode de déposition. Zur Abscheidung von GaAs-Filmen im Vakuum von 5.10−8 Torr auf Saphir und auf (111)-orientierten semiisolierendem GaAs-Substrat wurde die Methode von Hudock modifiziert. Auf Saphir erhöhte sich die Kristallgröβe mit der Substrat-temperatur von 0,6 μm bei 480°C auf 18 μm bei 670°C. Die bevorzugte Orientierung (〈111〉-Textur) bildete sich bei höherer Temperatur vollständiger aus. Laue-Beugungsbilder und Elektronenreflexionsbilder, die Einkristallen entsprechen, wurden an Filmen beobachtet, die zwischen 630 und 640°C entstanden waren. Thermische- und Hall-Messungen zeigten bei Schichten auf Saphir p-Leitung mit einer Beweglichkeit bis zu 42 cm2/Vsec. Die elektrischen Eigenschaften der Heteroepitaxieschichten werden diskutiert im Zusammenhang mit dem Einfluβ von Potentialbarrieren an den Korngrenzen, Raumladungszonen in den Kristalliten, Abweichungen von der Stöchiometrie und einer Kompensation der Dotierungsstoffe. Die homoepitaktischen Schichten waren n-leitend mit Beweglichkeiten, die den Volumenwerten näher lagen. Die höhere Beweglichkeit dieser Filme zeigt, daβ die Qualität der Heteroschichten eher durch das Substrat als durch das Abscheideverfahren begrenzt werden." @default.
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