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- W1998181772 abstract "In dislocation-free floating-zone silicon crystals two types of microdefects were observed and analyzed by means of optical and electron-microscopical methods. Microdefects of type I occur in swirl-type arrangements throughout the whole wafer and appear as etch hillocks below which one can find second phase particles. Due to the chemical-mechanical polishing near the wafer surface microdefects of type II are generated which also occur in spiral arrangements. These defects could be identified to be plate-like vacancy agglomerates on {111} planes. In versetzungsfreien zonengeschmolzenen Siliziumkristallen wurden zwei Arten von Mikrodefekten beobachtet und mit Hilfe optischer und elektronenmikroskopischer Methoden analysiert. Mikrodefekte des Typs I treten in swirlartigen Anordnungen durch die ganze Scheibe hindurch auf und erscheinen als Ätzhügel, unter denen man Teilchen einer zweiten Phase finden kann. Infolge des chemisch-mechanischen Polierens werden nahe der Scheibenoberfläche Mikrodefekte des Typs II gebildet, die in spiralförmigen Anordnungen auftreten. Diese Defekte konnten als plätthenförmige Leerstellenagglomerate auf {111}-Flächen identifiziert werden." @default.
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