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• W2014098644 abstract "Die Kinetik des Auflösungsprozesses eines polymeren Stoffes in einem strömenden Lösungsmittel wird von thermo- und hydrodynamischen Eigenschaften des Polymer-Lösungsmittel-Systems beeinflußt. Es können verschiedene Mechanismen unterschieden werden: Normale Auflösung: Die Auflösungsgeschwindigkeit wird durch gegenseitige Diffusion der Komponenten innerhalb einer Quellschicht gesteuert. Auflösung ohne Quellschicht: Unterhalb der Geltemperatur wird der Auflösungsprozeß durch eine behinderte Konformationsumwandlung der Makromoleküle vom Glas- in den Gleichgewichtszustand kontrolliert. Auflösung mit Entmischung in der Quellschicht: Die Quellschicht zerfällt in Gel- und Solschicht. Der Lösungsprozeß verläuft nicht-stationär. Auflösung mit Rekristallisation in der Quellschicht: Die Auflösung von glasigen, aber kristallisationsfähigen Polymeren (Beispiel: Polycarbonat) führt zu einer quasistationären Kristallisationszone innerhalb der Quellschicht. Auflösung von teilkristallinen Polymeren: Die Wachstumsbedingungen der sphärolithischen Struktur sind für den Löseprozeß geschwindigkeitsbestimmend. Der Auflösungsprozeß hat in der Röntgen-Lithographie große Bedeutung. Zur Abbildung kleinster Strukturen wird ein Polymer-Resist durch Strahlung partiell abgebaut und mit einem Lösungsmittel selektiv entwickelt. - Das Ausmaß der Strahlenschädigung im Polymerresist kann über die Kinetik des Auflösungsprozesses erfaßt werden. Solution processes of polymers in a flowing solvent depend on thermo- and hydrodynamic properties of the polymer-solvent-system: of dissolution. Normal dissolution: Rate of dissolution is limited by a mutual diffusion of solvent and polymer respectively within a boundary layer of swollen macromolecules. Dissolution without boundary layer: Rate of dissolution below gel-temperature is determined by a hindered transition of macromolecular conformation from glassy to equilibrium state. Dissolution and phase separation within the boundary layer: The boundary layer is composed of a high concentrated gel-layer and a low concentrated sol-layer. The entire process is non-stationary. Dissolution and recrystallization within the boundary layer; In some cases dissolution of glassy polymers leads to intermediate crystallization within the boundary layer. Dissolution of semicrystalline polymers: Differences of spherulite structure due to different conditions of growth may influence the rate Solution process and x-ray lithography: Copies of smallest structures can be achieved by irradiation of thin polymer-resists with high energy radiation ans subsequent selective dissolution.- Degradation of polymer-resist can be determinate by rate of dissolution" @default.
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