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- W2022038586 abstract "Se depositaron peliculas de nitruro de boro (BN) sobre sustratos de silicio mediante CVD termico utilizando mezclasde diborano y amoniaco. Se estudio el efecto de la temperatura de deposicion (T), en el rango 500 ? 1000 oC, sobre lascaracteristicas estructurales y opticas de las muestras de BN. La velocidad de deposicion alcanza su maximo (1600 A/min) aT = 900 oC. La energia de activacion (Ea) de la reaccion NH3 + B2H6, determinada a partir de la representacion de Arrhenius,es de 13.6 kcal/mol en el rango 500 ? 900 oC. La espectroscopia IR revelo la existencia de diferentes bandas correspondientesa enlaces B-H, N-H y B-N. La concentracion de especies B-H y N-H esta por debajo del nivel de deteccion mediante IR en laspeliculas de BN depositadas a T = 800 oC. El analisis quimico por espectroscopia XPS muestro la presencia de enlaces B-B yB-N. Al aumentar la temperatura de deposicion se produce una disminucion de los enlaces B-B, lo que favorece la formacionde BN casi-estequiometrico a T = 1000 oC. A esta temperatura las peliculas resultantes de BN son altamente transparentes conun indice de refraccion de 1.7. Las peliculas de BN depositadas a T = 900oC son amorfas, sin embargo a T = 1000oC cristalizanparcialmente con una estructura turbostratica." @default.
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