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- W2037005510 abstract "Double injection theory in semi-insulators (semiconductors) containing deep acceptor impurities and a small density of shallow donors is extended to include the effects of gradients in the deep impurity density. The space-charge neutrality based solutions for the square-law region show strong dependence on the direction of injection with respect to the density gradient. The intersection point between the ohmic region and the square law region is shown to shift to lower voltages when hole injection takes place at the highly doped end of the π-type device. For electron injection at the acceptor-type trap rich end, a condition of single injection is approached and the double injection model does not hold. Experiments with semi-insulating silicon p+πn+ structures, where the π region contains a diffused gradient of indium as the deep acceptor, confirm the main conclusions of the theory. La théorie de double injection des semi-isolants (semiconducteurs) contenant des impuretés profondes d'accepteurs et une petite densité de donneurs peu profonds est étendue de façon à inclure les effets de gradients dans la densité d'impuretés profondes. La charge d'espace des solutions à base neutre dans la région à loi carrée démontre une forte dépendance sur la direction d'injection relative au gradient de densité. Le point d'intersection entre la région ohmique et la région à loi carrée est présenté comme se deplaçant vers les tensions plus basses quand l'injection des trous se produit du côté fortement dopé du dispositif de type π. Pour l'injection d'électrons au côté riche de la trappe du type accepteur, une condition d'injection simple est approchée et le modèle à double injection n'est plus valable. Des expériences avec des structures p+πn+ au silicium semi-isolant ou la région π contient un gradient d'indium diffusé comme accepteur profond, confirment les conclusions principales de la théorie. Die Theorie der zweifachen Injektion in Halbisolatoren (Halbleiter) mit tiefliegenden Akzeptor-Störstellen und einer geringen Dichte flacher Donatoren wird erweitert, um die Effekte zu erfassen, welche ein Dichtegradient der tiefliegenden Störstellen mit sich bringt. Die Lösungen für den quadratischen Bereich der Kennlinie weisen eine starke Abhängigkeit von der Injektionsrichtung bezüglich des Dichtegradienten auf. Der Schnittpunkt zwischen dem ohmschen und dem quadratischen Gebiet der Kennlinie verschiebt sich zu niedrigeren Spannungen, wenn die Löcherinjektion auf der hochdotierten Seite der π-Zone stattfindet. Bei Elektroneninjektion auf der akzeptor-reichen Seite nähert man sich einem Zustand einfacher Injektion und das Modell zweifacher Injektion verliert seine Gültigkeit. Experimente an halbisolierenden p+πn+ Strukturen in Silizium, deren π-Zone einen durch Diffusion entstandenen Dichtegradienten von In als tiefem Akzeptor enthält, bestätigen die wesentlichen Schlussfolgerungen der Theorie." @default.
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