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• W2045066725 abstract "The flame photometry and atomic fluorescence spectroscopy of silicon in nitrogen and argon separated nitrous oxide-acetylene flames have been investigated. The high-temperature, reducing, fuel-rich, argon-separated flame permits the detection of down to 5 and 0.55 p.p.m. of silicon in aqueous solution by flame photometry and atomic fluorescence, respectively. A silicon microwave-excited electrode-less discharge tube was prepared and used for excitation of the atomic fluorescence. The optimum conditions for the determination of silicon by both techniques have been investigated. The fluorescence technique showed no interference from hundredfold amounts (relative to silicon) of 23 ions, but 5 ions interfered in the determination by flame photometry. The fluorescence technique was also largely free from quenching and scatter effects in the presence of these extraneous ions. Les auteurs ont effectué une étude sur la photométrie de flamme et la spectroscopie par fluorescence atomique du silicum en flamme oxyde nitreux (séparé de l'argon et de l'azote)-actétylène. Cette flamme, réductrice, à température élevée permet de déceler jusqu'à 5 et 0.55 p.p.m. de silicium dans une solution aqueuse, respectivement par photométric de flamme et fluorescence atomique. On a préparé un tube à décharge spécial pour l'excitation de la fluorescence atomique. Les conditions optima sont données pour le dosage du silicium par ces deux techniques. La technique par fluorescence ne présente pas d'interférence pour 23 ions, en concentration 100 fois supérieure à celle du silicium, par contre cinq ions gènent le dosage par photométrie de flamme. Es wurde die flammenphotometrische und die atomfluoreszenzspektros-kopische Bestimmung von Silizium mit Stickstoff- und argon-getrennten Stickstoff-oxid-Acetylen-Flammen untersucht. Die sehr heisse, reduzierende, brennstoffreiche argon-getrennte Flamme erlaubt den Nachweis von 5 bzw. 0.55 p.p.m. Silizium in wässriger Lösung mit der Flammenphotometrie bzw. Atomfluoreszenz. Es wurde eine durch Mikrowellen angeregte elektrodenlose Silizium-Entladungsröhre hergestellt und für die Anregung der Atomfluore zenz verwendet. Die optimalen Bedingungen für die Bestimmung von Silizium mit beiden Techniken wurden bestimmt. Die Fluoreszenztechnik zeigt bei 23 Ionen im 100fachen Überschuss keine Störung; 5 Ionen störten die Bestimmung mit der Flammenphotometrie. Bei Gegenwart dieser Ionen war die Fluoreszenztechnik weitgehend frei von Quench und Streueffekten." @default.
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