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• W2059097411 abstract "Abstract Des films de nickel ont été déposés sous un vide extrêmement poussé et leur résistance électrique a été mesurée tandis qu'une couche d'hydrogène adsorbée se formait lentement sur la surface du film. Le gaz était stocké dans un système de recyclage « quasi inépuisable », il était diffusé à une vitesse contrǒlée à travers un capillaire vers le film de nickel. Les courbes représentant la résistance en fonction de la fraction de la surface occupée à −78° C et à 0° C montrent que la couche d'adsorption est une couche composée. Outre les atomes d'hydrogène qui sont chimisorbés d'une façon stable et qui provoquent l'augmentation ordinaire de la résistance électrique comme décrit plus tǒt, une deuxième espèce d'hydrogene paraît se produire quand il y a une grande fraction de la surface occupée. Cette deuxième espèce est moins stable et plus mobile que la première et sa présence diminue la résistance du film. Une partie de cette deuxième espèce peut être enlevée en établissant le vide à 0° C; la modification de la résistance qui en résulte est en grande partie réversible lorsqu'on admet ou enlève l'hydrogène. Des expériences d'adsorption sur des surfaces précouvertes appuient l'observation antérieure des auteurs que l'adsorption d'hydrogène sur le nickel exempt d'impuretés provoque une augmentation de la résistance électrique, tandis que l'adsorption sur le nickel contaminé diminue sa résistance. Un modèle physique est proposé qui décrit les deux états d'adsorption en considérant la topographie des faces cristallines." @default.
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