Matches in SemOpenAlex for { <https://semopenalex.org/work/W2062468752> ?p ?o ?g. }
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- W2062468752 abstract "En utilisant le schema de bandes des polymeres electroactifs, nous expliquons les raisons pour lesquelles au cours de l'implantation ionique dans ces materiaux les deux principaux processus generes (le dopage et les endommagements) sont a meme de jouer un role important. Les mesures de conductivite continue, de pouvoir thermoelectrique et de conductivite alternative ont conforte nos interpretations: de forts parametres d'implantation generent des endommagements qui induisent des phenomenes de transports de type p principalement dans les etats degeneres situes au voisinage du niveau de Fermi, alors que de faibles parametres d'implantation favorisent le dopage dans les bandes polaroniques caracterisees par des processus thermiquement actives bien que la presence de defauts puisse se faire sentir notamment a basse temperature" @default.
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