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• W2075181133 abstract "A bright nickel was passivated in the pH 8·39 boric acid-borate buffer solution. The oxide formation reactions were mainly investigated by means of polarization experiments, alternating anodic and cathodic polarization, potential decay experiments and colorimetric analysis. From the results, the chemical composition and structure of passive films formed on nickel were discussed. The experimental results are summarized as follows. 1. A considerable amount of nickel ions dissolved during the anodic formation of passive films. The dissolution ceased because of the formation of NiO2. 2. The passive films on bright nickel has a duplex structure consisting of NiO and Ni3O4. At higher potentials, NiO2 was produced on them. NiO and Ni3O4 were formed directly from Ni, and NiO2 was transformed from Ni3O4. 3. NiO and NiO2 were reversibly produced and reduced, but Ni3O4 was very difficult to be reduced. 4. It was observed that there was a reversible charging and discharging layer at the potential where Ni3O4 formed. The electric capacity was calculated to be about 100 μF/cm2, assuming that roughness factor was 2. It would be reasonable to think that a space charge was established on nickel surface. Un nickel brillant a été passivé dans le tampon acide borique à pH = 8,39. La réaction de formation de l'oxyde a été surtout étudiée par des expériences de polarisation, en alternant les polarisations anodiques et cathodiques, par des mesures des chutes de potentiel et par des analyses colorimétriques. La composition et la structure des films passifs formés sur le nickel ont été discutées à partir des résultats. Les résultats expérimentaux sont résumés comme suit une grande quantité d'ions nickeleux s'est dissoute pendant la formation du film passif. Cette dissolution s'est arrêtée à cause de la formation de NiO2. Le film passif du nickel brillant a une structure duplex de NiO et de Ni3O4. Aux potentials plus élevés, NiO2 se forme par dessus. NiO et Ni2O4 sont formés directement à partir de Ni et NiO2 se forme à partir de Ni3O4. NiO et NiO2 s'oxydent et se réduisent d'une manière réversible, mais Ni3O4 est difficile à réduire. On a observé une couche réversible se chargeant et se déchargeant au potentiel ou Ni3O4 se forme. La capacité électrique calculée est 100 μF/cm2, en supposant un facteur de rugosité égal à 2. II serait raisonnable de penser qu'une charge spatiale s'est établie sur la surface du nickel. Ein Glanznickel wurde in einer Borsäure-Borat-Pufferlösung von pH 8,39 passiviert. Die Oxydbildungsreaktion wurde hauptsächlich mittels Polarisationsversuchen, abwechselnder anodischer und katodischer Polarisation, Potentialabfallversuchen und kolorimetrischer Analyse untersucht. Auf Grund der Ergebnisse wurde die chemische Zusammensetzung und Struktur passiver Filme auf Nickel besprochen. Die Versuchsergebnisse lassen sich wie folgt zusammenfassen. (1) Eine beträchtliche Menge von Nickel(II)-Ionen ging während der anodischen Entstehung passiver Filme in Lösung. Die Auflösung hörte wegen der Bildung von NiO2 auf. (2) Die passiven Filme auf Glanznickel hatten eine Duplexstruktur aus NiO und Ni3O4. Bei höheren Potentialen wurde NiO2 auf ihnen erzeugt. NiO und Ni3O4 wurden direkt aus Ni gebildet, und NiO2 entstand durch Umwandlung aus Ni3O4. (3) NiO und NiO2 wurden reversibel erzeugt und reduziert, aber Ni3O4 war sehr schwer zu reduzieren. (4) Es wurde beobachtet, dass es eine reversibel aufladende und entladende Schicht bei dem Potential gab, bei dem sich Ni3O4 bildete. Die elektrische Kapazität wurde mit etwa 100 μF/cm2 errechnet, wobei ein Rauhigkeitsfaktor von 2 angenommen wurde. Die Annahme der Entstehung einer Raumladung auf der Nickeloberfläche wäre gerechtfertigt." @default.
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