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- W2082806497 abstract "Molecular beam epitaxy (MBE) takes advantage of crucibles indirectly heated by an electric resistance heater. These thermal sources can be used to evaporate a great variety of materials. A precise control of the evaporation rate, however, requires a temperature stability of about 1‰. Therefore, a detailed knowledge on the thermal behaviour of the source is indispensible.It is intended to present models describing the response of the source temperature to a step change in heating power and compare the results by experimental data.Fur die Molekularstrahlepitaxie (MBE) verwendet man Tiegel, die durch einen elekrischen Widerstandsheizer geheizt werden. Eine Vielzahl von Materialien last sich mit thermischen Quellen verdampfen. Die genaue Steuerung und Regelung der Verdampfungsrate erfordert jedoch eine Temperaturkonstanz von ungefahr 1‰. Deshalb sind genaue Kenntnisse des thermischen Verhaltens der Quelle notwendig.Es Werden einerseits Modelle zur Beschreibung des zeitlichen Verlaufes der Quellentemperatur nach sprunghafter Anderung der Heizleistung und andererseits experimentelle Ergebnisse zur Charakterisierung der Quelle vorgestellt." @default.
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