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- W2233430994 abstract "A tecnica de deposicao de filmes magnetron sputtering apresenta muitas vantagens em relacao a outros metodos, como por exemplo, a simplicidade do equipamento, o baixo custo de manutencao, facil manuseio e, a possibilidade de obtencao de altas taxas de deposicao. Sua utilizacao e hoje muito difundida em areas como; microeletronica, metalurgia e optica. Foram projetados, desenvolvidos e caracterizados catodos magnetron de corrente continua do tipo planar, circulares e retangulares. Foram tambem depositados e caracterizados filmes metalicos e liga metalica para comprovar o funcionamento do magnetron sistema de disposicao. Os resultados foram excelentes comparados ao resultados presentes na literatura.Abstract" @default.
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