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- W2247673338 abstract "Este trabalho apresenta um estudo de filmes finos e ultrafinos por difracao de raios-X com reflexao as simetrica e baixo ângulo de incidencia atraves da utilizacao do Goniometro de Guinier. O objetivo principal deste trabalho foi estudar de maneira geral as propriedades da difracao por reflexao as simetrica com o intuito de mostrar as possibilidades da tecnica na aplicacao ao estudo de filmes finos. Sao apresentados resultados da caracterizacao de filmes finos de Ge nanocristalino crescidos por sputtering sobre lâmina monocristalina do mesmo material. As analises permitem identificar um perfil de profundidade com relacao a textura. Tanto nestas amostras como tambem em filmes de Au sobre Si monocristalino foi possivel subtrair completamente as reflexoes do substrato. Outro aspecto interessante desta tecnica abordado neste estudo e mostrado com os resultados de uma amostra de GaAs nao dopado crescido epitaxialmente sobre substrato de Si monocristalino. Foi obtida uma caracterizacao da epitaxia sob diferentes ângulos azimutais. Alem de mostrar a aplicacao desta geometria no estudo dos filmes mencionados, uma grande contribuicao desta tese foi, sem duvida, a implementacao da tecnica no Laboratorio de Cristalografia Aplicada e Raios-X do IFGW onde sera usado como importante instrumento de pesquisa Abstract" @default.
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