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• W2277695919 abstract "Les technologies plasma sont couramment employees pour le depot de films minces et parmis celles-ci la pulverisation magnetron est largement utilisee. Cependant, les effets d'ombrage rendent difficiles les depots sur des formes complexes. Les atomes sont pulverises dans toutes les directions et arrivent au substrat avec une large distribution angulaire. Ce probleme peut etre resolu en augmentant le taux d'ionisation du plasma. En appliquant une tension de bias sur le substrat, les ions peuvent etre acceleres et leur direction controlee. Avec le champ electrique a la surface du substrat, les ions sont deposes avec une incidence normale. Une possibilite pour augmenter le taux d'ionisation des particules pulverisees est d'utiliser une spire RF. Une cathode de titane (diametre 10 ou 15 cm) est pulverisee dans l'argon pur et un melange argon-azote. La puissance DC a la cathode varie de 100 a 1600 W et la puissance RF 13.56 MHz dans la spire (diametre 12 et 15 cm) varie de 0 a 500 W. Le plasma est analyse par spectrometrie de masse et sonde de Langmuir, 1 cm au-dessus de la spire. En spectrometrie de masse, les especes detectees dans l'argon pur (30 mtorrs) quand la spire n'est pas alimentee sont Ti + , Ar + et Ar 2 +. Lorsque la spire RF est alimentee avec 150 W, le nombre d'especes detectees augmente et l'on distingue Ar 2 + et Ti ++ . Les distributions en energie des ions sont tres differentes si la spire est alimentee ou non. Les ions acquierent de plus en plus d'energie quand la puissance RF augmente. En ajoutant 3 % d'azote, la cathode est empoisonnee et l'on distingue de nombreuses especes azotees sur le spectre de masse avec notamment TiN + . La sonde de Langmuir permet d'obtenir des informations sur les electrons. En augmentant la puissance DC a la cathode, sans puissance a la spire, la temperature electronique est constante a partir de 200 W DC. Les distributions en energie des electrons ne sont pas modifiees et proches d'une Maxwellienne avec des puissances DC a la cathode de 100 a 1000 W. L'influence de la puissance RF est tres marquee sur les distributions electroniques. La distribution se rapproche d'une bi-Maxwellienne quand la puissance dans la spire augmente. Avec uniquement la puissance RF dans la spire, les distributions sont proches d'une Maxwellienne. Ainsi, on a pu observer des distributions proches d'une Maxwellienne pour des plasmas purement DC (cathode) et purement RF (spire). Ces distributions ne sont plus Maxwelliennes lorsque la cathode et la spire sont simultanement alimentees. Un couplage important des plasmas a la cathode et a la spire est ainsi mis en evidence." @default.
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