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- W2317755756 abstract "Ni/SiO2 粉体に硫化水素,エチレンオキシドをあらかじめ吸着させ,その上に水素吸着を行なったときの触媒の磁化の変化,吸着等温線,吸者熱を測定した。吸着した硫化水素 1 分子がおおうニッケル原子の数を n とすれば,硫化水素吸着による磁化等温線の傾きから n=4～5 がえられ,またニッケルの分散度および一定量の硫化水素吸着による磁化の変化量から n=5.8 がえられた。硫化水素が,水素吸着の磁化等温線の前期部分に相当する,ニッケル粒子の比較的小さい表面を選択的に被毒したとすると,n=5.4 となりこれらの値はいずれもよく一致した。さらに硫化水素被毒量を増すと,吸者分子間の相互作用のため n=3.7 に減少した。エチレンオキシド吸着による磁化の変化から,エチレンオキシドはエチレンと同じ状態で吸着すると考えられ,またその被毒作用は,硫化水素と異なり表面の吸着サイトを等しくブロッキングし,とくに活性部分を選択的におおうことはみられなかった。Ni-Cu/SiO2 に対する水素吸着では,吸着初期において磁化の変化が大きく減少し,表面と深層における銅の分布が一様でないことを示唆した。さらに,-75, -184℃ における水素,一酸化炭素の吸着による磁化の変化を測定し,-184℃ においてなお 9 ml(NTP)/g-Ni に達する化学吸着がみられ, -75℃ における一酸化炭素は,吸着量が 24ml(NTP)/g-Ni に達するまではニッケル 2 原子と橋かけ型で吸着し,それ以後,ニッケル 1 原子との単一結合に移行することが明らかとなった。" @default.
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