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- W2318192656 abstract "パルス反応装置を用い, 反応物質と触媒毒を交互に注入すると毒注入量増加とともに主反応の転化率が低下する。この転化率-毒注入量曲線から触媒表面の活性点濃度を求める方法を,活性点の活性が均一な場合について理論的に考察した。転化率が零になるまで注入した毒量から求める零転化率法はもっとも簡単であるが,触媒毒吸着速度が主反応速度に比べてきわめて大であるか,触媒がきわめて多量である場合にのみ適用できる。この条件が満たされない場合には転化率が小さいところで被毒曲線がわん曲して,どこまでの毒注入量をもって活性点量とすべきか明確でない。このような一般的な場合についてこの被毒曲線に接線をひいて外挿する外挿法,曲線の変曲点から求める変曲点法,異なった二つ以上の触媒量での被毒曲線の交点から求める交点法を提案し,とくに交点法が最も一般的で精度が高いことを示した。さらにニッケル触媒上でベンゼンの水素化反応のチオフェン被毒(零転化率法の適用できる場合),シクロヘキセンの水素化反応の硫化エチル被毒(零転化率法の適用できない場合)を実験して理論的に得られた結論を確認した。" @default.
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