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- W2334606095 abstract "ポリハロゲン化顔料のハロゲン化度の低下を計る試みとして, 分子のannellationによる方法について検討考察した。すなわち対象化合物にキノフタロン系, ビスフタリジリデン系およびビスアゾメチン系顔料を選び, これら顔料の熱的性質をTGAによる重量減少量から求め, 耐熱性におよぼすハロゲン置換基の数と分子のan-nellationによる寄与について検討した。その結果, 分子のannellationが顔料の耐熱性の向上に非常に有効であり, 検討したすべての系のannellation化合物についてハロゲン化度を半減してもなお耐熱性に有利であり, ある場合には置換ハロゲン原子4コよりも有効であり, 全くハロゲン原子を含まないannellation化合物でポリハロゲン化物と同等, もしくはそれ以上の耐熱性を得ることも可能なことがわかった。結論として, 分子のannellationが今後の無公害性顔料の研究に対する一つの方策になりうるとの知見をえた。" @default.
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