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- W2368274966 abstract "Neste trabalho apresentamos o desenvolvimento de processos de back-etch para a formacao de plugs e de processos para obter estruturas em tungstenio com paredes verticais. Ao mesmo tempo apresentamos o estudo dos mecanismos da corrosao de tungstenio por plasma. Neste trabalho usavamos principalmente dois tipos de equipamentos de corrosao por plasma. O primeiro tem a potencia aplicada a uma frequencia de 25 kHz, ao inves da tradicional 13,56 MHz. O segundo e do tipo reator com confinamento magnetico. Em ambos os sistemas e possivel obter corrosao quimica e corrosao induzida por bombardeamento ionico. Conseguimos obter bons processos de IIback-etch em ambos os equipamentos. E possivel obter estruturas de tungstenio com paredes verticais em ambos os equipamentos. Porem a seletividade detungstenio para fotorresiste e sempre baixa, tipicamente 1:1. Portanto precisar-se-ia de um tipo de mascara especial para a corrosao de tungstenio quando este e usado como interconexao. A maioria dos mecanismos, como descritos na literatura foi confirmada neste trabalho. Onde ha contradicoes na literatura, conseguimos determinar qual mecanismo e valido, como no caso de corrosao quimica, ou em quais circunstâncias qual mecanismo e valido, como no caso da formacao e influencia do oxido de tungstenio. Podemos tambem concluir que para a grande maioria dos processos, o mecanismo que limita a taxa de corrosao do tungstenio, e a chegada das especies reativas na superficie da lâmina. Para os outros processos, ha fortes indicacoes que a interacao plasmatungstenio- resiste causa fenomenos que limitam a taxa de corrosao. As conclusoes deste trabalho nao sao apenas validas para os equipamentos estudados aqui, mas tambem para outros sistemas.Abstract" @default.
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