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- W91191108 abstract "La spectroscopie Raman est utilisee dans le cadre de la caracterisation locale des contraintes mecaniques en microelectronique. Les effets des deformations sur le spectre Raman du silicium sont etudies de maniere a etablir un protocole experimental. Les notions importantes de resolution et d'observation sont abordees. Plusieurs techniques originales derivees de la retrodiffusion Raman sont mises en oeuvre. L'utilisation de l'ultraviolet proche permet d'ameliorer considerablement la resolution spatiale des mesures Raman. Une methode de mesure des contraintes basee sur le couplage entre simulations et experiences est developpee. Differents dispositifs microelectroniques sont etudies par cette methode. Les resultats obtenus permettent de valider et d'etendre le champ d'application de la methode. Des experiences de spectro-tomographie Raman sont realisees sur des structures d'isolation. Enfin, une etude est menee sur des alliages silicium germanium." @default.
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