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- W977223065 abstract "Este trabalho teve como objetivo estudar precursores unicos para a deposicao de filmes finos dos oxidos metalicos de niobio, zirconio e cobre. Foram sintetizados e caracterizados os compostos [Nb(OPr)5]2 (2.1), [Nb(OPr)5(HOPr)] (2.2), [{Zr(HOBu)2(HFTB)2}(HOBu)] (3.1), [Cu(hfacac)2L] onde L=THF (4.1), O(Et)2 (4.2), O(Pr)2 (4.3), cis-trans DMOTHF (4.4) e cis-trans DMTHF (4.5) (HFTB = hexafluorotercbutoxido, hfacac = 1,1,1,5,5,5,-hexafluoro-2,4-pentanodiona, DMOTHF = 1,4-dimetoxotetrahdrofurano e DMTHF = 1,4-dimetiltetrahidrofurano). Os compostos foram analisados e caracterizados por espectroscopia no infravermelho, Raman, RMN ou RPE e difratometria de raios-X de monocristal (composto 3.1). Os dados cristalograficos do composto (2.1) sao a= 9,632(2) A, b= 9,799(4) A, c= 22,108(6) A, a = 84,30(5)°, b = 82,07(7)°, g = 76,05(9)°, Z= 2 grupo espacial P(-1). O alcoxido heteroleptico de zirconio 3.1 foi exaustivamente analisado por RMN de H a -90°C e foi proposta uma estrutura em solucao para este composto. O composto 4.3 foi analisado por RPE-ESEEM e as distâncias entre os atomos de hidrogenio e o atomo de cobre foram medidas. Foram feitos estudos termicos de DQV dos compostos 2.1, 2.2, 3.1 e 4.1. Os filmes dos oxidos metalicos obtidos por DQV foram caracterizados por XPS, UV-Vis de reflectância e EDX que indicavam ser filmes de Nb2O5 e Cu2O. Os produtos volateis eliminados na DQV foram identificados por RMN em solucao e, a partir da identificacao dos produtos volateis, foram propostos mecanismos das reacoes de decomposicao do precursor 2.1 e 3.1.Abstract" @default.
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